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                真空溅射镀膜

                作者:admin 发布日期:2021-08-14 关注次数: 二维码分享
                定义

                给靶材施加高电压(形成等离子状态),使正荷电气体离子撞击靶材、金属 原子飞弹,而在样品表面形成金属皮膜的方法。

                真空溅射锁膜的优缺点

                优点:

                · 对于任何待锁材料,只有 能做成靶材,就能实现溅射

                · 溅射所获得的薄膜与基片结合良好

                · 溅射所获得的薄膜纯度高, 致密性好

                · 溅射工艺可重复性好,膜 厚 可控制, 同 时司 以 在大面『积基片上获得厚度均匀的薄膜

                ● 缺点:

                · 溅射设备复杂

                · 溅射淀积的成膜速率低,真空蒸锻淀积速率为0.1~spm/min

                · 基板升溫较高和易受杂质气体影响
                昆山英利悦电子有限公司是一家独资企业,主营pvd真空镀膜,pvd镀膜,pvd工艺,五金镀膜,金属镀膜,浙江镀膜,位于百强县级市之首昆山市,地处苏州及上海交界处,交通便利,环境优美.咨询电话:13584969897
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