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                昆山英利悦电子有限公司,专注于PVD表面处理,真空镀膜加工服务商
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                PVD镀膜新趋势

                作者:admin 发布日期:2021-06-05 关注次数: 二维码分享
                 真空镀膜随着PVD镀膜技术应用的迅速推广,吸引了国内外专家们⊙和相关企业积极研发,至今无论是PVD沉积技术、PVD的制备╱工艺,还是PVD设备配套装备与部件,都有了长足的进步。

                1.冷阴极电弧 阴极电弧』技术是在真空条件下,通过低电压和高电流的弧光放电将靶材气化、离化成等离子体状态,从而实现薄膜材料的沉积。最近阴极电弧蒸发源有新的发展,主要是通过有效强制冷却和电磁场独特的设计,在两者共同作用下,使靶材的离化率更高,薄膜性能更加优异。

                2.磁过滤阴极弧 配以高效的电磁过滤系统,将电弧产生的等离子体中的中性宏观粒子、分子团等大颗粒过滤干净,经磁过滤后沉积粒≡子的离化率达100%,因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蚀性能好,与基体的结合力更强。

                3.柱状或平面状大面积电弧源 保证高离化率的同时,减少大颗粒沉积的比例,达到既有好的附着力,又有较好的表面光洁度▆效果。

                4.中频磁控溅射 增加●离化率,减少电荷积累引起的异常放电,预防靶表面中毒现象,沉积工艺更稳定。

                5.全封闭非平衡磁控①溅射 通过全封闭非平衡电磁场的作用,极大地提高真空室内的离化率以及沉积速率,增强膜基结合力和薄膜沉积的均匀性。

                6.脉冲高能窄峰直流溅射 提高瞬间的轰击能量和溅射靶材的离化率(高至50%~60%),接近电弧的离化率。通过电磁场的作用可以大大增加沉积离子的能量,从而改善〗膜层的结合力和致密性。

                7.阳极层离子源辅助沉积 提高轰击清洗的质量,特别是可以实现对非导体的镀前清洗,镀膜时辅助沉积,提高沉积粒子的能量,改善膜层的结合力。

                8.纳米复合多层膜 纳米沉积技术,是涂层结构未来的发展方向,通过纳米级厚度的不同成份沉积层复合结构膜,实现涂层性能的极大增强。

                9.装饰性双色间镀 单一的颜色PVD涂层已满足不了市场的需求,进而提出双色间镀■的要求,这是装饰涂层的发展方向,双色间镀的质量成为代表PVD加工企业的生产技术水平标志。

                10.高能脉冲叠加直ㄨ流偏压 减少工件的打火,增加沉积离子能量,增强膜基结合力,提高沉积速率。

                11.超低温捕集泵 通过低〇温冷凝效应,迅速捕集真空系统内的残余气体,特别是水蒸汽,大大缩短抽真空的时间,获得洁净的真空环境。

                12.分子泵及深冷泵 绿色环保,大大降低能耗,真空系统抽速稳定,镀膜工艺稳定可↓靠,重现性好。深冷泵还可以抽排低饱和蒸汽压等难抽气体,保证真空系统的洁净度。

                昆山英利悦电子有限公司采用磁控离子溅射镀及多弧离子镀等先进绿色环保真空镀膜工艺主要致力于3C行业及五金『件类的PVD真空镀膜, 其可以在各种五金材料的工件(基体)上镀制出各种膜层,以达到不同的性能要求和外观效果;目前拥有16台具备先进工艺配◥置的真空镀膜设备,主要从事电子产品、医疗器件、汽车配件、运动器材等五金产品表面PVD加工服务,膜层以装饰镀和功能膜(DLC)为主;加上与其相配套的喷砂、镭雕、激光焊接、研磨抛光等生产设备,使生产能∮力不断得到提升并提供优质的产品。 

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