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                昆山英利悦电子有限公司,专注于PVD表面处理,真空镀膜加工服务商
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                PVD真空镀膜技术

                作者:admin 发布日期:2020-10-24 关注次数: 二维码分享
                PVD真空镀膜是在由真空中∴将钛、石墨、金、水晶等金︼属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面卐处理过程。与传统化学镀膜方法相比,PVD有很多优点:如对环境无污染,是绿色环保工艺;对操作者无伤害;膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强,膜厚均匀。

                PVD技术中经常使用的方法主要有:蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术)、溅射镀膜(包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术),这些方法统称物理气相沉积(Physical Vapor Deposition),简称为PVD。行业内通常所说的“IP”(ion plating)离子镀膜,是因为在PVD技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用,为了强调离子的作用,而统称为离子镀膜。

                昆山英利悦电子有限公司是一家独资企业,主营pvd真空镀膜,pvd镀膜,pvd工艺,五金镀膜,金属镀膜,浙江镀膜,位于百强县级市之首昆山市,地处苏州及上海交界处,交通便利,环境优美.咨询电话:13584969897

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