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                昆山英利悦电子有限公司,专注于PVD表面处理,真空镀膜加工服务商
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                真空镀膜技术的应用领域

                作者:admin 发布日期:2021-07-24 关注次数: 二维码分享
                1.在装饰品方面
                随→着经济的发展和生活水平的提高,人们喜欢将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室内外装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五彩缤纷。
                2.在刀具、模具等金属切削加工工具方∏面
                在生活中,我们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等,这些就是经过PVD真空镀膜技术加工◆后的涂层工具。
                (1)金黄色的,是在刀具上涂镀了TiN、ZrN涂层,TiN是第一代应用广泛的↙硬质层材料。
                (2)黑色的,是在切削工具上涂了TiC、CrN涂层。
                (3)钴铜色的,是在刀具上镀涂了TiALN涂层。
                3.在建筑玻璃和汽车玻璃上
                建筑玻璃有透光和∏隔热两个基本功能。
                普通玻璃能透过绝大部分太阳光辐射能量,这对采光和吸收太阳光线的能量十分有利。而对于空间红外辐射,普通玻▲璃虽能阻止室内的热量直接透过室外,但热量被玻璃吸收后的二次散热也会造成◣很大的损失。
                随着经济的发展,普通玻璃已越来越不能满足人们的要求,而阳光控制膜和低辐射膜正好能弥补了普通玻璃在这一方面的↓不足。阳光控制膜可以满足低纬度地区降低室内温度的要求;而低辐射膜则能满足高纬度地区充分接受太阳辐射能量和最大限度阻止室内热量外流的々要求。
                在玻璃上,镀涂一层TiO2就能使其变成防∞雾、防露和自清洁玻璃,这种工艺在汽车玻璃上有很好的应用。
                4.在平板显示器中
                所有各类平板显示器都要用到各种类型的☉薄膜,而且,几乎所有类型的平板显示器件都需要使用ITO膜,以满足透明电器的要求。可以毫不夸张的说,没有薄◇膜技术,就没有平板显示器件。
                5.在太阳能╱利用方面
                当需要有效地利用太阳热能时,就要考虑采用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所引起的损耗较小的吸收面。太阳⌒光谱的峰值大约在波长为2-20μm之间的红外波段。由于太阳辐射与热辐射光谱在波段上有差异,因此,为了有效地利用太阳热能,就必须考虑采用具有波长∩选择特性的吸收面。
                理想的选择吸收面,是太∑ 阳辐射光谱的波段(可见光波段)吸收率(α)为1,在热辐射波段(红外波段)辐射率(ε)为0。
                6.在防伪技术中
                防〓伪膜种类很多,从使用方法可分为反射式和透射式;从膜系附着方式可以分为直接镀膜式、间接镀膜式或间接镀膜剪贴式。
                7.在飞机防∞护涂层方面
                飞机的钛合金紧固件,原来采用电镀方法镀镉。但在镀镉中含有氢,所以在飞行过程中,受到大气、海水的腐蚀,镀层上容易产生“镉脆”,甚至引起“空难”。
                8.在光学♀仪器中
                人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪,以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等,它们▂都离不开PVD真空镀膜技术,镀制的薄↓膜有反射膜、增∴透膜和吸收膜等几种。
                9.在信息存储领域中
                PVD真空镀膜材料作为信息记录于存储介质,有其得天独厚的优势:
                由于薄膜很薄【々,可以忽略涡流损耗;磁化反转极为迅速;与膜面平行的双稳态状态容易保持等。
                为了更精密地记录「与存储信息,必然要采用镀膜技术。
                10.在传感器※方面
                在传感器中,多采用那些电气性质相对于物理量、化学量及其变化来说,极为敏感的半☆导体材料。此外,其中,大多数利用的是半导体的表面、界面的性质,需要尽量增大其面积,且能︼工业化、低价格制作,因此,采用PVD真空镀膜〗薄膜的情况很多。
                11.在集成电路制造中
                晶体管路中的保护层(SiO2、Si3N4)、电极管线(多晶硅、铝、铜及其合金)等,多是采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技ω 术、磁控溅射技术和射频溅射技术。可见,气相沉积是制备集成电路的核心技术之一。

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